多結晶シリコン薄膜トランジスタへの不純物導入技術
1998 年 67 巻 3 号 p. 306-309
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1998 年 67 巻 3 号 p. 306-309
近年,アクティブマトリックス方式の液畠ディスプレイ (AM-LGD) は,主力のフラットパネルディスプレイとなっている.この中で使用される薄膜トランジスタ(TFT: Thin Film Transistor) として,近年開発が活発化している低温多縮晶SiTFTに焦点を当て,プロセス,ヂバイス構成,および不純物導入技術としておもに適用されているイオンドーピングについて展望する.
