日新電機株式会社先端技術研究開発部
1998 年 67 巻 6 号 p. 655-658
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大型基板を対象とするイオン流発生技術の本格的な実用化が始まった.本稿では,液晶ディスプレイ 製造用の大口径高周波イオン源において,ボスフィンガスおよびジボランガスで生成したプラズマ中のイオン種生成について示す.また,ほかのイオン流発生技術についてその動向を示す.
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