EUVリソグラフィー技術

抄録

パターン寸法0.1μm以下の集積回路の量産技術として,波長13nm付遣の光を用いる麺端紫外光 (EUV) リソグラフィーが候補に上がっている。この技術は原理的には縮小投影露光zあり,投影光学系は多層膜ミラーで構成されるなどの特徴がある。レーザープラズマ光源,非球面ミラー,反射型マスク,表面イメージングプロセスなどの要素技術と露光装置について紹介する。