応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
ラダー電極を用いた大面積均一VHFプラズマの生成と製膜への応用
河合 良信村田 正義竹内 良昭真島 浩
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2001 年 70 巻 4 号 p. 438-442

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抄録

ラダー電極を用いてVHFプラズマを生成し,水素およびシランガスプうズマの特性をラングミュアプローブにより詳しく調べた.放電電源周波数を高くすると,電子密度は 1010cm-3 を超える.一方,電子温度は2eV以下に減少することがわかった.また,アモルファスシリコン膜の製膜速度も周波数が高くなるにつれて大きくなった.120MHzで4nm/s 以上の製膜速度が得られた.

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© 社団法人 応用物理学会
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