九州大学大学院総合理工学研究院
三菱重工業(株)技術本部長崎研究所
2001 年 70 巻 4 号 p. 438-442
(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)
(BibDesk、LaTeXとの互換性あり)
ラダー電極を用いてVHFプラズマを生成し,水素およびシランガスプうズマの特性をラングミュアプローブにより詳しく調べた.放電電源周波数を高くすると,電子密度は 1010cm-3 を超える.一方,電子温度は2eV以下に減少することがわかった.また,アモルファスシリコン膜の製膜速度も周波数が高くなるにつれて大きくなった.120MHzで4nm/s 以上の製膜速度が得られた.
すでにアカウントをお持ちの場合 サインインはこちら