日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
第15回秋季シンポジウム
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PLD法によるAlを添加したMgxZn1-xO薄膜の構造と電気特性
両見 春樹安達 裕坂口 勲大橋 直樹羽田 肇竹中 正
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p. 335

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抄録
PLD法によりサファイアA面基板上に[ZnO/(Zn, Mg, Al)O]10膜を作製した。X線回折図形から、基板温度が高くなるにつれて結晶性が良くなっており、また、基板温度が700℃においては2thetaが31deg及び32.2deg付近に超格子回折のピークと同定されるピークが見られた。これにより、ZnO/(Zn, Mg, Al)O積層膜が高い周期性を持って成膜されたことが確認できた。
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©  日本セラミックス協会 2002
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