レーザー干渉法による有機-無機ハイブリッド周期構造体の作製

抄録

異なる誘電率を有する二種類以上の材料を数百nmの周期で配列した構造体はフォトニック結晶として注目されている。これまでレーザー干渉法により周期性のあるレーザー光を光感応性材料に対して照射し、未照射部と照射部のアルコールヘの溶解性の違いを利用して数百nmの周期を持つ構造体が形成出来ることを報告してきた。しかし、その材料の屈折率は低く、フォトニック結晶の光学特性を向上させるためにはより高屈折率材料を探索することが重要となる。そこで、本研究ではSiO₂-TiO₂系ハイブリッド材料を対象に光重合可能な高屈折率材料の探索を行い、その材料に対してレーザー干渉法を用いた周期構造の作製を試みた。約1.7μm周期で材料が配列した二次元周期構造体が作製できた。