DTAにおける結晶化過程の数値解析

抄録

二段階熱処理によって測定された核の数密度とDTAにより求められた結晶化ピーク温度の関係を得るためにLi2O·2SiO2ガラスの結晶化挙動の数値解析を行った。この解析では核の臨界半径の温度依存性を考慮した。その結果、結晶化に寄与する核の大きさは昇温速度に依存し、二段階熱処理によって得られる核の数密度とDTA測定における結晶化に寄与する核の数密度は異なることがわかった。