日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2003年年会講演予稿集
セッションID: 1I06
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Y2O3-SiO2 助剤を添加した SiC 焼結体特性に及ぼす焼結雰囲気の影響
*井上 博文片山 恵一今井 雅三矢野 豊彦
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抄録
本研究では、焼結雰囲気を変えることにより焼結体を作製し、焼結体の酸素分析を行なうことにより微構造及び機械的性質に及ぼす助剤揮発の影響を検討した。1MPa の Ar 雰囲気中で 40MPa の圧力下1950℃で1時間ホットプレス法により焼結を行なって得られた焼結体の内側と外側の酸素分析を行なった結果、ガス圧をかけることにより、助剤の揮発が外側において抑制されていることが確認できた。XRD による相同定においても内側と外側で同じ生成相を持っていた。ガス圧の影響により SiO2 の揮発が抑制され、助剤分布の均一な焼結体が得られた.
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©  日本セラミックス協会 2003
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