抄録
微小空間における高分子系の相分離構造形成は界面への特定成分の選択的吸着、すなわち濡れにより著しく影響を受ける。また、鋳型となる微小空間を構成する界面の形、大きさ、化学的性質によって濡れの性質は異なると考えられるため、最終的なゲルのモルフォロジーもこれらの要素に大きく左右される。本研究ではmethyltrimethoxysilane (MTMS)、 tetramethoxysilane (TMOS)を出発原料とするシロキサンゾルゲル系の相分離構造を0～2 の様々な次元をもつ微小空間内に作製し、その形成挙動について比較・検討を行った。特にO次元鋳型であるマクロ多孔質シリカ内における相分離構造形成と濡れの関係を詳細に調べた。
