ヒドロシリル基末端ポリジメチルシロキサンと層状ペロブスカイト HLaNb2O7 層表面に固定化された C=C 結合とのヒドロシリル化反応

抄録

CH_2=CH(CH_2)_3-O基修飾HLaNb_2O_7とヒドロシリル基末端ポリジメチルシロキサン(PDMS)との反応により、層間内でのヒドロシリル化反応を試みた。反応後基本面間隔は1.84nmから2.54 nmに増加した。IR スペクトルよりシロキサン骨格に起因するバンドが観察された。^<13>C CP/MAS NMRスペクトルと^<29>Si CP/MAS NMRスペクトルでは、ジメチルシリル基に帰属できるシグナルと(CH_3)_2Si(OSi)CH_2に帰属できるシグナルが新たに出現した。以上より、層間内に固定化されたC=C結合とPDMSの末端Si-H基の間でヒドロシリル化反応が進行したと考えられる。