化学気相析出法により作製した酸化物膜中に含まれる残留成分と膜形状の関係

抄録

CVD法により作製した酸化物膜はしばしば高純度である事が求められる。極めて微かに存在する残留成分が膜形状や結晶性に大きな影響を与える。本研究では昇温脱離ガス分析(TDS)法によりこの残留成分を高真空中で脱離させて分析する。加熱することによって作製した酸化物膜からH₂,H₂O,N₂,およびCO₂分子が放出される事がわかった。膜内に残留する成分と膜を構成する微細構造の形態の関係について言及する。