日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
第18回秋季シンポジウム & 第1回アジア-オセアニアセラミック連盟国際会議
セッションID: 1B05
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層状コバルト酸化物SrxCoO2(x~0.4)三次元配向薄膜のガラス上への作製
*水谷 篤史杉浦 健二太田 裕道河本 邦仁
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抄録

ガラス上酸化物熱電デバイス実現のため、ガラス上熱電酸化物薄膜の作製を行った。PLD法・反応性固相エピタキシャル法により作製したα-Al2O3上NaxCoO2エピタキシャル薄膜を純水に浸漬、剥離させてガラス基板上に転写し、そうして得られたガラス上NaxCoO2三次元配向薄膜をSr(NO3)2粉末中310℃三時間大気中アニールを行い、p型熱電材料であるSrxCoO2三次元配向薄膜をガラス上に作製することに成功し、配向は高分解能XRD測定からも確認することができた。また、この薄膜の室温熱電特性はS=136μV/K、σ=1.19×102S/cmであった。

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©  日本セラミックス協会 2005
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