溶液滴下法によるZrO2・nH2O薄膜の作製

抄録

ZrO2薄膜は高屈折率や透過率から光デバイス、高耐摩耗性から薄膜磁気記録媒体に利用されており、電子ビーム蒸着やCVD法、イオンビームスパッタリングなどの方法により作製されている。しかし、これらの方法は加熱を必要とするため耐熱性基板にしか製膜できない。我々が開発した溶液滴下法を用い室温で加熱することなくZrO2薄膜を作製し、XRDやFT-IRからOH基を含むアモルファスのZrO2・nH2Oであることを確認した。