日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
第18回秋季シンポジウム & 第1回アジア-オセアニアセラミック連盟国際会議
セッションID: 1F05
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HfO2-ZrO2系薄膜からのカソードルミネッセンス
*土田 宗和丸山 隼人佐藤 裕子並木 恵一大塩 茂夫西野 純一齋藤 秀俊
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抄録
カソードルミネッセンス(CL)法によりHfO2薄膜の発光が原料中に含まれる不純物Zrに起因することを報告してきた。そこで、本研究ではHfO2-ZrO2系薄膜を作製し、発光特性をCL測定により調査した。HfO2-ZrO2系薄膜から4.4 eV付近にピークを持つ発光が得られた。このことからHfO2-ZrO2系薄膜の発光原理は、不純物Zrが形成した準位からの遷移とは考えられないことがわかった。
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©  日本セラミックス協会 2005
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