光造形法によるセラミック製フォトニックフラクタルおよびクリスタルの創製

抄録

フォトニックフラクタルは誘電体の自己相似的な配列により、内部に電磁波 を閉じ込める機能材料である。一方、フォトニッククリスタルは誘電体の周 期的な配列により、電磁波を回折させる機能材料である。我々の研究グループではCAD/CAMプロセスの光造形法とセラミック焼結技術を組み合わせ、三 次元のフォトニックフラクタルおよびクリスタルを作製した。誘電媒質はア ルミナであり、ミリメーターオーダーの構造により３０GHｚ付近のミリ波の 制御を目指すものである。有限要素法による電磁波解析（TLM法）との比較も含めて、二つの機能性構造体が発現する電磁波制御効果について詳細を述 べる。