粒子複合化プロセスによる低相手攻撃性TiNナノ粒子分散Si3N4セラミックスの開発

多々見 純一; 渡邊 洋史; 脇原 徹; 米屋 勝利; 小豆島 明; 荒牧 賢治; 目黒 竹司

doi:10.14853/pcersj.2006F.0.277.0

第19回秋季シンポジウム

セッションID: 2E06

DOI https://doi.org/10.14853/pcersj.2006F.0.277.0

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主催: 公益社団法人日本セラミックス協会

粒子複合化プロセスによる低相手攻撃性TiNナノ粒子分散Si₃N₄セラミックスの開発

*多々見純一, 渡邊洋史, 脇原徹, 米屋勝利, 小豆島明, 荒牧賢治, 目黒竹司

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キーワード: 窒化ケイ素, トライボロジー, 粒子複合化, TiO2ナノ粒子, TiNナノ粒子, 分散

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抄録

粒子複合化プロセスによりTiNの原料となるTiO₂ナノ粒子とSi₃N₄粒子からなる複合粒子を調製した．これに焼結助剤を添加した混合粉末を成形し，窒素雰囲気化でガス圧焼結法によりSi₃N₄セラミックスを作製した．得られた焼結体の摩耗試験をボールオンディスク試験により行った．その結果，TiO₂ナノ粒子とSi₃N₄粒子を湿式混合によりプレミックスした後で粒子複合化することにより，TiNを分散していない場合と同程度の低い相手攻撃性を示すことが明らかとなった．

責任著者(Corresponding author)

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