レーザーアブレーション法による ARuO₃ (A = Sr, Ba および Ca) 薄膜のエピタキシャル成長

抄録

レーザーアブレーション法を用いて (001), (110), (111) SrTiO3 (STO) および (001) LaAlO3 (LAO) 基板上にSrRuO3 (SRO), BaRuO3 (BRO) およびCaRuO3 (CRO) 薄膜をエピタキシャル成長させ、基板面方位と薄膜の表面形態および微細構造の関係を調べた。結晶構造の近いSROとCROは、(001) STO上では層状成長し、(110) 面上では島状成長した。 (111) 面上ではSROは層状成長したが、CROは柱状に成長した。 (001) LAO上では成長様式が (111) STOと逆転した。BROはいずれの基板でもSROおよびCROとは異なる微細構造をとり、BROの長いc軸を反映した微細構造を示した。