制限空間内における異方性をもったシロキサンゲル構造形成

抄録

相分離を伴うゾルゲル法と微小空間が与える影響を組み合わせることで、2次元制限空間中に異方性を有するシロキサンゲルを作製できることが知られている。この材料は主に新規ＨＰＬＣカラムとしての応用が期待されるが、さらに気孔率を増加させることや骨格内に小さな細孔を排除することなど、まだ課題が残されている。出発組成を変えることでこのピラー構造のモルフォロジー制御は狭い範囲で可能であることが現在分かっているが、本研究では外場を加えることでさらに広い範囲でもモルフォロジー制御を目指している。