日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2006年年会講演予稿集
セッションID: 1A35
会議情報

AD法による基板内臓型キャパシター用誘電体厚膜の作製
関根 崇*南 ソンミン掛本 博文和田 智志鶴見 敬章明渡 純
著者情報
会議録・要旨集 フリー

詳細
抄録
電子機器の小型化・高速化が進むのに伴い、キャパシタを基板に内蔵する技術が求められているが、Aerosol Deposition Method(AD法)は低温で緻密な膜を高速で作製出来るため、その有力な候補と考えられている。本研究では、より高いキャパシタンス密度を持つ誘電体厚膜を得るための方法を提案することを目的とする。その方法として、原料粉の粒径を変化させることで、誘電体厚膜の微細構造を制御することを検討した。それに関連してサイズ効果による影響の大きいBaTiO3以外の固溶体材料(BZT, BST)の検討を行った。最後に、成膜中の原料粉加熱の効果について検討した。
著者関連情報
©  日本セラミックス協会 2006
前の記事 次の記事
feedback
Top