日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2006年年会講演予稿集
セッションID: 1A36
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AD法によるマイクロ波誘電体セラミックス厚膜の作製
桃谷 光保子*南 ソンミン掛本 博文和田 智志鶴見 敬章明渡 純
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抄録
既存のマイクロ波誘電体は高温焼結により作製され、バルク形状に制限されていた。本研究では、セラミックスの室温成膜法であるエアロゾルデポジション(AD)法を用いて、低温プロセスによるマイクロ波誘電体厚膜作製を行う。出発原料としては、既往の研究により優れた特性が認められているBa4.2Sm9.2Ti18O54を選択し、粒径の異なる3種類の粉末を用いた。これを、AD法を用いてCu基板上に作製し、誘電特性の評価を行った。粒径による特性の違いおよびアニーリング効果を通して、微細構造が誘電特性に及ぼす影響を解明する。
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©  日本セラミックス協会 2006
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