日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2006年年会講演予稿集
セッションID: 2C24
会議情報

TG-MassによるSiC粉末の高温酸化過程におけるガス分析
*明石 孝也笠島 美穂清野 肇嶋田 志郎
著者情報
会議録・要旨集 フリー

詳細
抄録
昇温前から酸素ガス(PO2= 2 kPa)を導入すると、昇温過程で重量増加とCO2(またはSiO)ガスの生成が観察され、パッシブ酸化が確認された。一方、Ar雰囲気中で昇温し、一定温度に達してから酸素ガスを導入した場合、昇温過程で重量減少とCO2(またはSiO)ガスの生成が観察され、アクティブ酸化が確認された。高温保持過程において、Ar雰囲気中で昇温後に酸素導入した場合の酸化速度は、昇温前から酸素ガスを導入した場合の酸化速度に比べて遅かった。この酸化速度の減少は、アクティブ酸化後のパッシブ酸化によって形成された凹凸の多いSiC/SiO2界面に起因していると考えられる。
著者関連情報
©  日本セラミックス協会 2006
前の記事 次の記事
feedback
Top