大気圧下における液面上プラズマを用いたダイヤモンド膜の合成

抄録

従来、∼300 Torrの減圧下で行ってきた液面上プラズマ法を改良し、大気圧下でのダイヤモンド合成を可能とした。これにより装置を非常に簡素にすることができた。直流プラズマCVD法では、ダイヤモンドがプラズマ発生面に析出する。プラズマが端部に集中して、ダイヤモンド膜の均一性を低下する問題を解決するために、補助電極を取り付けた。その結果、透光性を示すダイヤモンドの自立膜が得られた。