溶液法による酸化ガリウム薄膜の合成と光学的・電気的性質

抄録

酸化ガリウムは紫外光を透過する酸化物半導体として知られており、新しい光電子材料として注目を浴びている。この酸化ガリウム薄膜をオキシ水酸化ガリウム及び硝酸ガリウムを原料としてディップコーティング法によって作製した。得られた薄膜の構造をSEM、TEMで観察し、光学特性、電気伝導度について測定した。さらに、数種のドーパントを添加して、これが電気伝導度などに及びす影響を検討した。その結果、作製した酸化ガリウムは膜は4.7eV程度の光学バンドギャップを有し、5x10⁶Ωcm程度の比抵抗を有していた。さらにZrやTiをドープすると約一桁比抵抗が減少することが分かった。