抄録
水田らが提案したゾルゲル法におけるa-Al2O3基板に対するMethanol表面処理は、内山らにより酸化物強誘電体(Pb,La)(Zr,Ti)O3薄膜に応用された。その結果、Methanol表面処理は(Pb,La)(Zr,Ti)O3薄膜にも有効であり、その結晶性などを向上させることが報告されている。したがって、表面処理は一般にCSD法に対して有効であると考えられる。しかし、Methanol表面処理のメカニズムやそれが基板表面や結晶成長に与える影響は明らかにされていない。本研究では表面処理が基板や結晶性に与える影響を実験し、表面処理のメカニズムを検討したので報告する。