日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
第20回秋季シンポジウム
セッションID: 1PL24
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焼結膜転写法による圧電体厚膜の低温形成 II
*小林 伸行浦川 明七瀧 努
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キーワード: 圧電性, 厚膜, 転写, PZT
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抄録
我々は、耐熱性が高いジルコニア基板上で、スクリーン印刷によりPZT厚膜をパターン形成し、高温熱処理によって十分に焼結させ、得られた焼結膜を、所望の基板へ転写する技術を開発した。今回は本プロセスの特徴である、ジルコニア基板上でのPZT膜の焼結挙動について調べた。その結果、高温でのPbO揮発性の低い組成を用いることで、ジルコニア基板との剥離性が実現されていることを確認した。また、膜と基板は点在する異相粒子により点結合されており、このことが、焼結中のパターン維持(拘束焼成)と、焼結後のハンドリング性(適度な付着性)に寄与していると考察した。
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©  日本セラミックス協会 2007
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