日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
第20回秋季シンポジウム
セッションID: 3C03
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ポリシラザンをシリカ源とするPMMA/シリカハイブリッド薄膜の作製と性質
*幸塚 広光田本 理博
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抄録
 ポリシラザンのキシレン溶液にPMMAを溶解させ、スピンコーティングによりSi(100)基板上にPMMA/ポリシラザン薄膜を作製した。これに室温でアンモニア水上で曝露処理を施し、PMMA/シリカハイブリッド薄膜とした。作製した薄膜の硬さ、光透過性、濡れ、化学的耐久性を評価した。
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©  日本セラミックス協会 2007
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