抄録
従来、薄膜太陽電池基板では、光閉じ込め効果を向上させるためにテクスチャ（凹凸）付きガラス基板が用いられている。絶縁膜付きステンレス箔は、ガラス基板に対してフレキシブルな形状付与性・Roll to Rollプロセスに対応可能・割れないなどの特徴を有するが、これまで絶縁膜の表面は平坦であった。今回、ステンレス箔上の絶縁膜の表面に微細な凹凸構造を形成する技術を開発したので報告する。凹凸構造はシロキサンポリマーと金属アルコキシドを主成分とするゾルの相分離によって形成されると考えている。凹凸のサイズは作製条件によってサブミクロンから数ミクロン程度まで可変である。
