抄録
Nafionに代表される有機高分子電解質膜は，耐熱性に乏しく，非常に高価であるため，PEFCの実用化に大きな障害となっている．一方，ゾル-ゲル法により作製したハイブリッド膜は，安価で，柔軟性や耐熱性に優れる．本研究では，テトラメトキシシラン(TMOS)を用いてポリジメチルシロキサン(PDMS)を架橋させることにより，中温域で使用可能な電解質膜の作製を目的とした．非イオン性界面活性剤Brij56を加え，ナノ細孔を有する膜にしたのち，H3PO4に浸漬することでプロトン伝導性を向上させた．膜の伝導度は80℃，90%R.H.において1.8×10-3 S/cmであった．ハイブリッド膜の熱的安定性，弾性率および細孔構造と伝導度の関係について考察する．
