抄録
大気開放型化学気相析出(CVD)法は、大気中に存在する水と酸素を利用して酸化物膜を合成する手法である。水は原料である金属錯体を分解する役割を持ち、酸素は酸化物膜を形成するために必要な成分となる。従来の熱CVD法では、合成温度の高速化を狙うためには反応温度と原料供給量を上げるが、基板表面における化学反応が平衡状態に達するため、この手法だけでは合成速度の高速化に限界がある。本研究では更なる高速化を狙うために、気相中の反応素過程を検討した。水と酸素に注目し、反応素過程の堆積速度にかかわる活性化エネルギーと頻度因子を求めることにより、どちらが反応律速を司る因子であるか検討を行った。
