ダイナミックオーロラPLD法によるアルミナ薄膜の結晶構造制御

脇谷 尚樹; 門脇 貞子; 藤戸 啓輔; 木口 賢紀; 高岡 秀充; 長田 晃; 鈴木 久男; 篠崎 和夫

doi:10.14853/pcersj.2007S.0.546.0

2007年年会講演予稿集

セッションID: 3H05

DOI https://doi.org/10.14853/pcersj.2007S.0.546.0

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主催: 公益社団法人日本セラミックス協会

ダイナミックオーロラPLD法によるアルミナ薄膜の結晶構造制御

*脇谷尚樹, 門脇貞子, 藤戸啓輔, 木口賢紀, 高岡秀充, 長田晃, 鈴木久男, 篠崎和夫

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キーワード: ダイナミックオーロラPLD法, アルミナ, 薄膜, バッファー層

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抄録

PLDチャンバー内に電磁石を組み込んだダイナミックオーロラPLD法でシリコン基板上にアルミナ薄膜を作製した。基板温度は800℃、成膜中に印加した磁場は2000Gである。磁場の印加により、プルーム（プラズマ）の活性が高くなるとともに結晶性のアルミナ薄膜が生成した。アルミナ薄膜の結晶構造はアルミナ膜の下部に導入したバッファー層によって変化することが見出された

責任著者(Corresponding author)

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