抄録
ソフトフェライトは磁気記録、高周波用のトランスなどの磁芯材料としての応用が期待されている物質である。その中のZnFe2O4は室温で通常は常磁性体だが、共沈法、超急冷法など特定の方法で作製したものはフェリ磁性を示す。その中でもダイナミックオーロラPLD装置を用いて磁場をかけながら作製したものは他の方法で得られる飽和磁化よりも2倍近い値を示すことが報告されている。そこで本研究ではZnFe2O4以外のフェライトにおいても同様に磁場印加効果があるのかを(Ni0.5Zn0.5) Fe2O4を用いて検討した。また今回はシード層としてYSZを用いることで(111)配向したNZF薄膜を作製し、磁気特性、結晶構造に及ぼす磁場印加効果について調査した。
