抄録
金属酸化物薄膜は、キャリヤやスピン等を制御することで強誘電性、磁気抵抗効果および超伝導など多種多様な特性を示すので、その薄膜化による各種デバイスへの応用が期待されている。通常、酸化物薄膜成長は熱平衡反応を用いて制御できるが、我々はエキシマレーザーによる光化学反応を用いて酸化物多結晶及びエピタキシャル薄膜成長を行ってきた。紫外線レーザーは、熱の影響が少ないことに加えて照射部のみ薄膜が生成するので、パターニングが可能であり各種積層デバイスや構造制御も可能である。本シンポジウムでは、塗布光照射法を用いたエピタキシャル酸化物薄膜の作製（Pb(ZrTi)O3(PZT)およびLa1-xSrxMnOy(LSMO)等）と電気特性及び反応機構について報告する。
