ナノインプリントガラス基板への透明導電性ナノパターン薄膜の作製と評価

抄録

安価で大面積な基板が作製可能であるガラスの表面を、ナノスケールで迅速に加工するガラスナノインプリント技術は、超機能ガラスの創成だけでなく、大面積ディスプレイ、太陽電池及び次世代電子デバイスの基板作製技術としても大きな期待がもたれる。我々は、これまでに自己組織化によるナノ溝構造を有する酸化物薄膜や、ナノステップを有するサファイア（α-Al２O３単結晶）基板を大面積適用可能なナノインプリントモールドとして用いたガラスナノインプリントが可能であることを報告してきた。今回は、ガラスナノインプリント法により作製したナノパターニングガラス上に透明導電性酸化物として有用なSnO₂やITOのナノパターン薄膜を製膜し、その特性に関して評価した。