ゾル-ゲル法によるZnO薄膜の作製

抄録

トルエンで希釈したオクチル酸亜鉛溶液を使用し、SrTiO₃基板上にゾル-ゲル法によりZnO薄膜を作製した。溶液の塗布はスピンコート法により、3000 rpm-5 sの条件で行った。乾燥は500 ℃にて行い、焼成は1000 ℃にて行った。その後、還元雰囲気下にてさらに焼成を行った。得られたZnO薄膜は、XRD測定にて相の同定を、SEM観察にて表面形態を、伝導度測定にて電気的性質等が分析された。XRD測定により、ZnO薄膜は(002)面に優先的に配向していることが分かった。さらにGa³⁺を添加すると、還元雰囲気下にて焼成していない膜の電気伝導度と比較して、還元雰囲気下で焼成した膜の電気伝導度は数桁の大きさで増加した。