日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
第21回秋季シンポジウム
セッションID: 3N16
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HfO2及び TiO2添加Si3N4系セラミックスの焼結挙動
*米屋 勝利多々見 純一堀川 大介脇原 徹目黒 竹司
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抄録
窒化ケイ素は優れた熱的・機械的特性によって、ベアリング材料として開発され、広範囲の応用分野において実用化されている。本研究は、代表的な組成系であるSi3N4-Y2O3-Al2O3-AlN系を基として、この系の焼結挙動に及ぼすHfO2 及び TiO2 添加の影響を調べたものである。とくに、この組成系での相反応、粒界相の役割、初期段階での焼結挙動解析などを中心に検討を行った。
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©  日本セラミックス協会 2008
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