鎖状テトラシロキサン[(tBuO)3SiOSi(OH)2]2Oの反応性

若林 隆太郎; 鈴木 淳平; 萩原 快朗; 下嶋 敦; 黒田 一幸

doi:10.14853/pcersj.2008S.0.1H19.0

2008年年会講演予稿集

セッションID: 1H19

DOI https://doi.org/10.14853/pcersj.2008S.0.1H19.0

会議情報

主催: 公益社団法人日本セラミックス協会

鎖状テトラシロキサン[(^tBuO)₃SiOSi(OH)₂]₂Oの反応性

*若林隆太郎, 鈴木淳平, 萩原快朗, 下嶋敦, 黒田一幸

著者情報

キーワード: ゾルゲル法, アルコキシシラン, 分子設計

会議録・要旨集フリー

詳細

抄録

固相および溶液中でのテトラシロキサン[(^tBuO)₃SiOSi(OH)₂]₂O (1)の安定性と反応性を詳細に検討した。FT-IR, 固体NMR, TG-DTA/MSにより結晶性固体1が融点以下で安定である事が示されたが、より高温（～150 ℃）ではSi-O-Si結合の解裂により分解した。1を酸性溶液に溶解させ攪拌したところ、Si-OH基およびSi-OtBu基は反応せず残存したが、Si-O-Si結合の部分的な解裂が見られた。また、トリメチルクロロシランで1のシリル化を行った。

責任著者(Corresponding author)

J-STAGEへの登録はこちら（無料）