日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2008年年会講演予稿集
セッションID: 1H20
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ゾル‐ゲル法によるミクロンサイズのシリカ粒子合成における成長メカニズム
*片山 公孝松丸 幸司石? 幸三
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抄録
本研究ではテトラメチルオルトシリケイトを前駆体として、酸を触媒とした油中水型エマルジョン中にてミクロンサイズのシリカ粒子を合成し、粒子成長のメカニズムを調査した。前駆体添加後、反応溶液の一部を採取し光学顕微鏡により観察した。また、採取した試料を24時間以上室温で乾燥させたものを電子顕微鏡により観察した。 粒子は反応初期の逆ミセルの大きさに制限されずに成長した。反応初期に各ミセルにより生成された粒子が一定時間後に凝結することによりさらに大きな粒子を形成したと考えられる。よって最終粒子径は凝結の条件によって制御されると考えられる。
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©  日本セラミックス協会 2008
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