チタニアゲルコーティング膜の結晶化に伴う面内応力変化： 膜の下地の効果

抄録

シリカ焼成膜あるいはチタニア焼成膜を事前にコーティングしたSi(100)ウェハを基板として、アルコキシド溶液からチタニアゲル膜を作製し、ゲル膜の昇温過程で観察される面内応力の変化に及ぼす下地の種類の効果を調べた。その結果、下地の種類あるいは下地の有無にかかわらず、面内引張応力が昇温過程で増大し、膜が結晶化する400～500℃で応力が減少した。すなわち、膜の結晶化に伴う応力の減少は、膜と基板の格子整合・不整合とは無関係におこることが明らかとなった。