日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2008年年会講演予稿集
セッションID: 1J31
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親水-疎水パターン膜の作製と静的ぬれ性の評価
*有光 直樹中島 章亀島 欣一岡田 清
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抄録
酸化チタン表面ではUV照射によって光誘起親水化現象を発現する.UV照射時間とともに表面エネルギーが高くなる過程において,表面エネルギー分布も変化していると考えられ,そのことが高度な親水化に影響を及ぼしている可能性がある.本研究では,親水域と疎水域による2次元分布効果が固体表面のぬれ性に及ぼす影響について検討することを目的としている.今回は,各種官能基を持つシランカップリング剤を用いて単分子膜を形成し,フォトリソグラフィーによって親水‐疎水パターン膜を作製した.親水域と疎水域の形状,比率,表面エネルギー差を変化させた膜を作製し,ぬれ性の評価を行った.
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©  日本セラミックス協会 2008
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