Si基板上へのNd-Fe-B系薄膜永久磁石の作製

抄録

Si（100）単結晶基板上にNd-Fe-B薄膜磁石を作製し、結晶配向性と磁気特性を調べた。成膜はRFスパッタリング法を用いて基板温度500℃で行い、赤外線加熱によってNd2Fe14B相を結晶化させた。蒸着膜はNd2Fe14B相の回折ピークがわずかに現れ、部分的に結晶化しているが磁気特性は軟磁性を示す面内磁化膜であった。600℃以上の熱処理温度でNd2Fe14B相の（00l）回折ピークが顕著になり、c軸配向性は大きくなるとともに、垂直磁気異方性と保磁力を示すようになった。