抄録
VAD(Vapor-phase Axial Deposition)法によりTiO2-SiO2ガラスを作製した。TiO2濃度は5wt%、7wt%（OH基濃度<150ppm）の2種類とし、測定温度は1350～1600KでBeam-bending法により粘性の測定を行った。結果、歪み点、徐冷点は5wt%では1250K、1380Kであり、7wt%では1220K、1360Kであった。求めた粘性をアレニウスプロットすることで、活性化エネルギーを計算した結果、TiO2濃度が5wt%のガラスは460kJ/mol、7wt%のガラスは450kJ/molであった。これはベルヌーイ法で作製したSiO2ガラスの活性化エネルギー410kJ/molに比べ大きく、VAD法で作製したTiO2-SiO2ガラスはベルヌーイ法で作製したSiO2ガラスに比べ構造緩和に要する時間が長いことが予想される。
