抄録
我々の提唱するナノシートシード法は、酸化物ナノシートと呼ばれる特異な二次元結晶のモノレイヤー膜を極薄のシード層として利用することで様々な基板上への結晶薄膜の配向成長を可能とした新たな薄膜成長制御法である。今回我々はガラス基板上でのより高品位な結晶薄膜の成長を目的とし、シードとなるナノシートのサイズを変化させた基板上にパルスレーザー堆積法を用いて(100)配向SrTiO3膜を作製しその薄膜の評価を行った。その結果シートの大型化に伴って配向度の大幅な向上が確認され、ナノシートの大型化が高品位薄膜の作製に有効であることが確認された。