抄録
酸化物をはじめとするセラミックスの成形・加工技術は高温を必要とするのが常識であったが，レーザー・電子線・バッファー（緩衝）層を巧みに組み合わせることにより， 新たなセラミックス要素技術としてのワンダープロセスを確立することができた。具体的には、室温での レーザーMBE（PLD）プロセスを用いた種々の高融点酸化物および窒化物のエピタキシャル（単結性）薄膜 の室温合成と電気的・磁気的・光学的な新機能発現を報告し、さらに酸化物単結晶基板上の原子ステップを 利用した新規な酸化物薄膜ナノパターン構造の形成，およびそのガラスナノインプリントへの工学的な応用などについて報告する。
