日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
第24回秋季シンポジウム
セッションID: 1B27
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無共溶媒ゾル-ゲル法によるチオール基含有ポリシロキサンの合成
*五十嵐 雄太梶原 浩一金村 聖志
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抄録
試薬の使用量の削減は材料合成において重要な課題である。アルコキシドの加水分解・重縮合によってシリカオリゴマーやシリカゲルを合成する場合、均一な溶液を得るため、また反応中のゲル化を防ぐためにアルコールをはじめとする共溶媒が一般に用いられている。チオール基含有シランを原料として得られた前駆体を光重合させて有機無機ハイブリッドを作製する研究が行われているが、前駆体を作製する際にトルエンが共溶媒として用いられている。本研究では、このような共溶媒を用いずに、アルコキシドと水のみを主成分とする系から光重合の前駆体として使用できるチオール基含有ポリシロキサンの合成法を開発したので報告する。
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©  日本セラミックス協会 2011
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