日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
第24回秋季シンポジウム
セッションID: 2I19
会議情報

含浸法による酸化スズ/シリカ複合中空粒子の合成
*河尻 史和高井 千加白井 孝藤 正督
著者情報
会議録・要旨集 フリー

詳細
抄録
中空粒子は内部に空孔を有することから,低密度,高比表面積,物質内包能といった中実粒子とは異なる性質を示す。この優れた特性を活かし幅広い分野で応用するためには目的に応じた機能化が必要である。機能化の方法としてシェルと機能性物質の複合化が挙げられる。そこで当研究室では導電性付与を目的とし,シリカシェルと酸化スズを検討してきた。しかし,これまでシェル表面での選択的な酸化スズの析出に至っておらず,合成条件の最適化が必要であった。そこで本研究では,シリカ表面への選択的な酸化スズ析出を狙いアセチルアセトナート塩化スズ溶液を用いた含浸法によって複合化を試みた。合成された複合粒子の形態や粉体層電気抵抗率に対する複合化手法の影響について報告する。
著者関連情報
©  日本セラミックス協会 2011
前の記事 次の記事
feedback
Top