ペルヒドロポリシラザンをシリカ源として作製されるPMMA・シリカハイブリッド薄膜の構造と性質

抄録

演者らは、Si-N骨格をもちSi-Hを末端基とする無機高分子であるペルヒドロポリシラザン（PHPS）からなる膜を、アンモニア水から発生する蒸気に曝露すると、室温でシリカ膜に変化することを報告している。PHPSをシリカ源とすることにより、有機高分子・シリカハイブリッド薄膜を作製できることも報告してきた。しかし、この方法によるハイブリッド膜の形成過程と膜の構造には不明な点が多く残っている。本研究では、PHPSをシリカ源としてPMMA・シリカハイブリッド膜を作製し，赤外分光、ラマン分光、XPSなどの分光学的方法によって構造を調べるとともに、物性評価を行った。