日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
第24回秋季シンポジウム
セッションID: 3A16
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MOCVDによるc軸配向LiCoO2膜の合成
*且井 宏和山下 勇司塗 溶藤嶋 正剛伊藤 暁彦後藤 孝
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抄録
有機金属気相析出法によりLiCoO2膜をAl2O3およびSiO2基板上に合成した。LiおよびCo原料にジピバロイオメタネートを用い、成膜温度を923から1073 K、炉内圧力を0.4 kPaとした。LiとCoの原料供給量比(Li/Co)が1から2の範囲で、Li2CO3やCoOなどの不純物を含まないLiCoO2単一相膜が得られた。X線回折ピーク強度から、得られたLiCoO2膜は(003)配向し、そのLotgering factorは0.87であった。SEMによる表面および断面組織観察では、正六角形の柱状構造がみられた。
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©  日本セラミックス協会 2011
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