日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2011年年会講演予稿集
セッションID: 2P016
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Y2O3-HfO2-SiO2添加による高熱伝導性Si3N4セラミックスの作製
*大竹 洋志多々見 純一脇原 徹米屋 勝利目黒 竹司菅井 淳山口 宏
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抄録
本研究では、Y2O3- HfO2- SiO2系焼結助剤を添加して高熱伝導率性Si3N4セラミックスを作製することを目的とした。相対密度はいずれの組成でも高い値を示し、緻密な焼結体を得ることができた。構成相は、いずれの試料でもβ- Si3N4とY2O3およびSiO2を固溶したc- HfO2が同定された。熱伝導率について同じY2O3およびSiO2添加量で比較すると、HfO2が大きく増加した場合に熱伝導率は低下した。また、同じHfO2およびSiO2添加量で比較した場合には、Y2O3の増加と共に熱伝導率は減少した。これらは、過剰な焼結助剤に起因した低熱伝導率相のガラス相とc- HfO2相の増加で説明される。
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©  日本セラミックス協会 2011
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