エアロゾルデポジション法で作製したチタン酸ビスマスセラミック膜の構造評価

抄録

ビスマス層状構造強誘電体(BLSF)で代表的なチタン酸ビスマス(Bi4Ti3O12, BiT)は、ホット－フォージング法1)やTemplated Grain Growth (TGG)法2)、磁気異方性を利用した強磁場中体積法3)など、様々な粒子配向化技術のモデルとして用いられてきた。常温衝撃固化現象を基にしたエアロゾルデポジション(AD)法は、室温で緻密なセラミック膜を高スループットで作製できることから、低環境負荷を実現するプロセス技術として近年注目されている。しかし、この方法での粒子配向制御に関する報告は非常に少ない。本研究では、BiT粒子を用いて、AD法における粒子配向制御の可能性を探索したので報告する。