抄録
本研究では室温大気圧下で行われる交互積層法を用いて、ガラス基板上へリンタングステン酸(WPA)交互積層膜の作製と水素ガスに対する応答性を光学的に評価した。
WPA交互積層膜の作製にはWPAとポリジアチルジメチルアンモニウムクロリド(PDDA)
を用いて作製し、その後光電着法によりPdを膜表面に形成した。
作製した試料のTF-XRD結果から作製した試料の明確な回折ピークは検出ず、光電着した試料では金属パラジウムの回折ピークが検出された。これは紫外光照射によりWPA中の電子が励起され、溶液中のPdイオンが還元され析出したためであると考えられる。この試料は水素に対して応答することが確認された。
